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關于白光干涉儀原理、用途以及應用要求的分析

更新時間:2019-09-09 點擊量:1597
 白光干涉儀原理:
白光干涉儀也叫邁克爾遜干涉儀,是用于對各種精密器件表面進行納米級測量的儀器,它是以白光干涉技術為原理,光源發出的光經過擴束準直后經分光棱鏡后分成兩束,一束經被測表面反射回來,另外一束光經參考鏡反射,兩束反射光終匯聚并發生干涉,顯微鏡將被測表面的形貌特征轉化為干涉條紋信號,通過測量干涉條紋的變化來測量表面三維形貌。
于非接觸式快速測量,精密零部件之重點部位的表面粗糙度、微小形貌輪廓及尺寸,其測量精度可以達到納米級!目前,在3D測量領域,白光干涉儀是精度zui高的測量儀器之一。
 
白光干涉儀對所測樣品的尺寸有何要求?
答:白光干涉儀載物臺xy行程為140*110mm(可擴展),Z向測量范圍大可達10mm,但由于白光干涉儀單次測量區域比較?。ㄒ?0X鏡頭為例,在1mm左右),因而在測量大尺寸的樣品時,全檢的方式需要進行拼接測量,檢測效率會比較低,建議尋找樣品表 面的特征位置或抽取若干區域進行抽點檢測,以單點或多點反映整個面的粗糙度參數;
 

該儀器所測的樣品一般都具備哪些特征,主要檢測哪些參數,檢測方式如何?
答:電子消費品領域,由于測量的多為玻璃制表面,因而多具備透明度高、超光滑(粗糙度多在1nm以下)這兩個特征,檢測方式上一般都采用從生產的批量中抽檢部分,再在樣品上抽取一大概的特定區域進行檢測,主要檢測的是器件的表面粗糙度,其次為臺階高,曲率半徑參數也會檢測,但不是主要需求參數;
 
半導體封裝領域主要是檢測硅片的表面粗糙度,也是采用從批量硅片中抽若干片進行檢測的方式進行,在抽檢的硅片上抽點進行檢測,主要需求參數為粗糙度,其次為臺階高;
 
產品用途:
結合光學顯微鏡與白光干涉儀功能的掃描式白光干涉顯微鏡,結合顯微物鏡與干涉儀、不需要復雜光調整程序,兼顧體積小、納米分辨率、易學易用等優點,可提供垂直掃描高度達400um的微三維測量,適合各種材料與微組件表面特征和微尺寸檢測。應用領域包含:玻璃鏡片、鍍膜表面、晶圓、光碟/影碟、精密微機電元件、平面液晶顯示器、高密度線路印刷電路板、IC封裝、材料分析與微表面研究等。
 

京公網安備 11010802031222號

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